光刻机是用来把电路图案投射到硅晶圆上、制造芯片的核心设备，现在垄断高端光刻机市场的 ASML，它的起点就是 1984 年荷兰埃因霍温一间漏雨的简易棚屋，由飞利浦分出的 47 名工程师开启项目，它不是凭空诞生的新技术，是飞利浦多年光刻技术积累，再通过合资公司独立商业化的产物。早在 70 年代飞利浦内部就已经在研发步进式光刻设备，也就是光刻机原型，但是光刻设备研发成本高、商业化难度大，当时飞利浦想找美国企业合作推进，谈判一直没有结果，最后选择和半导体材料厂商 ASMI 合资成立 ASM Lithography，也就是 ASML，把原本内部研发团队里 47 名工程师拆分出来，在简陋棚屋里独立做光刻机的商业化落地。
一、前期技术铺垫
- 时间：20 世纪 70 年代
- 主体：飞利浦 Natlab 实验室
- 内容：实验室内部启动晶圆步进光刻设备研发，搞清楚把掩模版上微小电路图形投射到硅片上的基础方案，积累了光刻、对准、晶圆载台相关技术，但是项目在飞利浦内部属于不被看好、投入产出很难估算的业务，很难持续拿到大额资源。
- 现状：技术原型有了，但没有独立销售、售后、迭代的商业化团队，没法推向外部芯片厂商。
二、合资公司成立，棚屋起步
- 时间：1984 年 4 月 1 日
- 合作双方：飞利浦、ASMI（Advanced Semiconductor Materials International），双方各占一半股份
- 人员：原飞利浦光刻研发团队一共约 50 人，其中 47 名工程师选择加入这家新公司
- 场地：荷兰埃因霍温飞利浦厂区旁边的简易棚屋，条件简陋，下雨会漏水，位置靠近垃圾堆，办公环境很差
- 首台产品：同年推出第一台光刻机 PAS 2000 步进机，采用油压驱动晶圆载台，性能有明显缺陷，早期客户很少，大部分订单来自飞利浦自家半导体部门。
三、早期关键发展节点
- 1985 年，团队扩充到 100 人，搬出漏雨棚屋，搬迁到维尔德霍芬新建厂房，这里也是 ASML 现在总部所在地。
- 1986 年，推出 PAS 2500 光刻机，升级对准技术，同年和德国卡尔蔡司达成镜头合作，蔡司光学镜头是光刻机成像的核心部件，这次合作成为 ASML 后续技术突破的关键。
- 1988 年，行业下行，客户数量不足，ASMI 选择退出投资，飞利浦独自承接股份和债务，公司一度濒临发不出工资，依靠飞利浦资金救助才活下来。
- 后续持续迭代，依靠 PAS 5500 模块化机型站稳市场，再一步步发展出浸没式光刻、EUV 极紫外光刻机，成为全球唯一能生产高端 EUV 光刻机的厂商。
四、光刻机的基础原理简单说明
光刻机本质就是一套超高精度的投影曝光系统：光源发出光线，穿过带有电路图案的掩模版，再经过精密镜头缩小投影，把图案印在涂了光刻胶的硅晶圆上，后续再通过刻蚀、掺杂等工序，在晶圆上做出无数晶体管。芯片制程越小，对光刻机光源、镜头、震动控制、对准精度的要求就越高。
【相关 FAQ】
问题 1：ASML 光刻机起步时，为什么 47 名飞利浦工程师要去漏雨棚屋办公？
回答 1：飞利浦当时不想在内部继续承担光刻机项目的商业化风险，于是和 ASMI 成立合资公司，这 47 名工程师是从飞利浦光刻研发团队拆分出来的首批员工，没有现成的正式办公厂房，只能临时使用厂区旁简陋漏雨棚屋开展 ASML 光刻机研发工作。
问题 2：1984 年 ASML 刚起步推出的 PAS2000 光刻机，有什么短板？
回答 2：PAS2000 是 ASML 第一款光刻机，采用油压式晶圆载台，油压容易污染芯片洁净车间，设备稳定性一般，市场认可度很低，早期几乎只有飞利浦内部部门采购，很难对外打开市场。
问题 3：ASML 光刻机早期能发展起来，和卡尔蔡司的合作起到什么作用？
回答 3：光刻机成像质量高度依赖高精度光学镜头，1986 年 ASML 和卡尔蔡司达成合作，蔡司为 ASML 光刻机提供精密光学镜头，解决光刻成像的核心难题，这也是 ASML 光刻机后续持续迭代、拉开和佳能尼康差距的重要基础。
【参考资料】
[2026-11-12]（光刻机是怎么来的？飞利浦 47 名工程师搬进漏雨棚屋，1984 年 ASML 起步）OFweek 电子工程网
[2024-06-18]（制造光刻机 40 年，一本新书重新发现了 ASML 成功的秘密）新浪财经
[2024-04-03]（ASML’s founding story: our roots in the semiconductor industry）ASML 官网
[2023-11-30]（光刻机之战）腾讯新闻
[2023-12-19]（ASML：从飞利浦弃儿到光刻之王）经济观察网
【免责声明】
本文内容仅为行业科普信息整理，所有历史信息以企业官方档案、权威媒体原始报道为准，不构成投资、技术采购相关建议，光刻机相关技术细节复杂，简化表述仅用于大众理解，不代表完整技术规范。
本文来自作者[幻域转讯客]投稿，不代表环球科技潮立场，如若转载，请注明出处：https://www.zennew.com/kjyw/202611/1566.html
评论列表（4条）
我是环球科技潮的签约作者“幻域转讯客”！
希望本篇文章《标题ASML 光刻机起源1984 年 47 名飞利浦工程师从漏雨棚屋起步》能对你有所帮助！
本站[环球科技潮]内容主要涵盖：科技,科技新闻,黑科技
本文概览：光刻机是用来把电路图案投射到硅晶圆上、制造芯片的核心设备，现在垄断高端光刻机市场的 ASML，它的起点就是 1984 年荷兰埃因霍温一间漏雨的简易棚屋，由飞利浦分出的 47 名工程师开启项目，它不是凭空诞生的新技术，是飞利浦多年光刻技术积累，再通过合资公司独立商业化的产物。早在 70 年代飞利浦内部就已经在研发步进式光刻设备，也就是光刻机原型，但是光刻设备研发成本高、商业化难度大，当时飞利浦想找美国企业合作推进，谈判一直没有结果，最后选择和半导体材料厂商 ASMI 合资成立 ASM Lithography，也就是 ASML，把原本内部研发团队里 47 名工程师拆分出来，在简陋棚屋里独立做光刻机的商业化落地。